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采用磁控反应溅射技术在玻璃表面上淀积大面积掺锡氧化铟薄膜(英文缩写为ITO),成功的应用到各种除冰霜用挡风电热玻璃、液晶显示透明电极和场致发光器件等。本文主要讨论不同的靶材比例、溅射电压、氧分压、基片温度、膜层厚度等工艺参数对ITO膜特性的影响。
溅射工艺对ITO膜性能的影响
【摘 要】
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采用磁控反应溅射技术在玻璃表面上淀积大面积掺锡氧化铟薄膜(英文缩写为ITO),成功的应用到各种除冰霜用挡风电热玻璃、液晶显示透明电极和场致发光器件等。本文主要讨论不同
【机 构】
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秦皇岛耀华工业技术玻璃厂
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1991年3期
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