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多孔硅的发光性能与其制备工艺密切相关，本文着重讨论了阳极氧化技术、表面再处理、硅衬底的电学性质等因素对多孔硅质量的影响，给出了合适的工艺条件。
多孔硅制备工艺的研究
【摘 要】
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多孔硅的发光性能与其制备工艺密切相关，本文着重讨论了阳极氧化技术、表面再处理、硅衬底的电学性质等因素对多孔硅质量的影响，给出了合适的工艺条件。
【机 构】
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东南大学电子工程系,东南大学电子工程系210018,210018
【出 处】
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半导体杂志
【发表日期】
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1995年1期
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