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日本的一个研究小组日前宣布，他们利用分子聚集并自然排布的现象，用高分子材料制成了宽度仅10nm的超微结构，这种新技术有望大幅提高半导体的性能。
日本研究者用高分子材料制成10nm超微结构
【摘 要】
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日本的一个研究小组日前宣布，他们利用分子聚集并自然排布的现象，用高分子材料制成了宽度仅10nm的超微结构，这种新技术有望大幅提高半导体的性能。
【出 处】
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材料工程
【发表日期】
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2008年11期
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