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采用射频（RF）反应磁控溅射技术在Si衬底上分别制备了具有（100）方向生长的ZnO薄膜和Ti掺杂ZnO薄膜（ZnO∶Ti）.利用X射线衍射（XRD）和光致荧光发光（PL）表征技术,研究了不同Ti掺杂浓度对ZnO薄膜微观结构和光学性能的影响.结果显示,Ti掺杂前后ZnO薄膜都具有六角纤锌矿结构,同时均表现出沿（100）方向的择优生长特性;掺入2%Ti元素后薄膜的织构系数Tc（100）明显增加,表明Ti的掺入对ZnO薄膜的结晶取向程度有一定影响.与未掺杂的ZnO薄膜相比,ZnO∶Ti薄膜的衍射峰发生宽化且峰