AMD公布新一代高性能硅晶体管技术及性能

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2003年9月18日,AMD在东京召开的“2003 International Conference on Solid State Devices and Mate—rials(SSDM,2003年固态器件及材料国际会议)”上,公布了采用全耗尽绝缘硅(Fully—depleted SOI,FDSOI)、应变硅、三栅极(Tri—Gate)和金属(NiSi)栅极的栅长20nm硅晶体管。AMD战略技术部研究员林明仁表示:
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