【摘 要】
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采用化学镀法在气体渗透率不同的多孔陶瓷基体上制备厚度均为5μm的Pd膜,研究了基体渗透率对Pd膜透氢性能的影响。在N2渗透率分别为2 470、1 390 m3/（m2.h.MPa）的基体上制备的P
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采用化学镀法在气体渗透率不同的多孔陶瓷基体上制备厚度均为5μm的Pd膜,研究了基体渗透率对Pd膜透氢性能的影响。在N2渗透率分别为2 470、1 390 m3/（m2.h.MPa）的基体上制备的Pd膜透氢过程均符合Siev-ert定律,压力指数n值为0.5,即氢在Pd膜中的体相扩散为H2透过Pd膜的速率控制步骤;而对于在N2渗透率为610 m3/（m2.h.MPa）的基体上制备的Pd膜,压力指数n值为0.8,同时Pd膜的H2通量增加幅度随着温度的升高而变小,说明基体的传质阻力对Pd膜透氢速率产生影响。考察
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