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研究了基体偏压和氧分压强影响 ITO 膜光谱的机理。确定出最佳氧分压为(8～10)×1O~(-3)pa,通过比较衬底高温法和衬底偏置法制备 ITO 膜的红外光谱,发现两者有相同的变化趋势。
淀积参数对ITO膜光谱的影响
【摘 要】
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研究了基体偏压和氧分压强影响 ITO 膜光谱的机理。确定出最佳氧分压为(8～10)×1O~(-3)pa,通过比较衬底高温法和衬底偏置法制备 ITO 膜的红外光谱,发现两者有相同的变化趋
【机 构】
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电子科技大学90B成都610054
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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1992年2期
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