中芯国际携手Synopsys拓展65纳米低漏电工艺技术

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Synopsys近日宣布开始提供用于中芯国际65纳米低漏电工艺技术的新思科技经硅验证的和获得USB标志认证的DesignWare USB2.0nanoPHY知识产权。在65nm技术日渐成为先进IC产品市场主导的今天,中芯的这一举措有助于其进一步拓展65nm产品线,快速量产65纳米低漏电工艺,加快客户的产品上市时间。
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