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相移掩模光刻技术,是近几年来为了开发超大规模集成电路(ULSI)而发展起来的一种新颖光刻技术。它应用了光学相移掩模方法,大大提高了现有光学光刻设备的分辨率水平。本文综述了相移光刻技术的发展及其在ULSI中的应用。
ULSI相移光刻技术＊
【摘 要】
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相移掩模光刻技术,是近几年来为了开发超大规模集成电路(ULSI)而发展起来的一种新颖光刻技术。它应用了光学相移掩模方法,大大提高了现有光学光刻设备的分辨率水平。本文综述
【机 构】
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化京大学微电子学研究所,机械电子工业部北京1000871,北京1000871,北京100820
【出 处】
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电子学报
【发表日期】
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1993年2期
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