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以ＸＰＳ、Ｘ－射线粉末衍射和扫描电镜为手段表征了ＭｇＣｌ２在ＳｉＯ２表面的分散态，结果表明溶剂性质、ＭｇＣｌ２负载量和处理温度是影响分散态的主要因素。
MgCl2在SiO2表面分散状态的表征
【摘 要】
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以ＸＰＳ、Ｘ－射线粉末衍射和扫描电镜为手段表征了ＭｇＣｌ２在ＳｉＯ２表面的分散态，结果表明溶剂性质、ＭｇＣｌ２负载量和处理温度是影响分散态的主要因素。
【机 构】
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厦门大学化工系,厦门大学化学系
【出 处】
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工业催化
【发表日期】
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1997年1期
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