CVD金刚石膜／硅为基板的微条气体室性能研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yeyayuqiya

【摘要】

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提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(p～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm,阴极100 μm,间距200 μm.室温下,充以1.01×10-5Pa Ar+CH4混合气体时,采用5.9 keV

【作者】

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张明龙夏义本王林军顾蓓蓓杨莹汪琳

【机构】

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上海大学材料科学与工程学院

【出处】

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功能材料与器件学报

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

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微条气体室气体探测器 CVD金刚石膜 X射线 micro-strip gas chamber gas detector CVD diamond film X-

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提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(p～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm,阴极100 μm,间距200 μm.室温下,充以1.01×10-5Pa Ar+CH4混合气体时,采用5.9 keV 55FeX射线测量了探测器在不同高压和气体比例时的脉冲高度分布,详细讨论了高压和气体比例对能量分辨率的影响,结果表明该探测器具有较高的信噪比和能量分辨率.在Ar+10%CH4混合气体、-1100 V漂移电压和-650 V阴极电压工作条件下,微条气体室能量分辨率可达12.2%.

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