CVD金刚石膜相关论文
对化学气相沉积(CVD)多晶金刚石膜进行激光平整化的正交试验,使用场发射环境扫描电子显微镜(SEM)进行形貌分析,激光共聚焦扫描显微......
本文所提供的为数不多的事例足以显现CVD金刚石膜在现代科技和工业中的地位和作用。这仅仅是CVD金刚石膜产业化应用的端倪，更多奥秘......
该文研究了CVD金刚石膜场发射性质。金刚石膜是利用热灯丝化学气相沉积法制备的。实验研究表明，金刚石膜场发射阀值电压强烈的依赖......
CVD金刚石膜的磨耗比在E-Mj平面上是一块"鸭"状域,而不是一条水平带状域.其"鸭"状曲线随测试过程而定,且与试样的大小,制作过......
使用力驱动静态超微压痕测量仪器(Force Driven Static Measuring Ultra Micro-Indentation System)-UMIS-2000对由直流等离子体喷......
蒙特卡洛动力学(Kinetic Monte Carlo-KMC)仿真方法通过结合金刚石膜生长表面的原子结构和形貌特性,以及对CVD金刚石膜生长过程在......
利用热灯丝化学气相沉积方法在光滑的钼上沉积了金刚石膜。用扫描电子显微镜和 Raman 谱对金刚石膜进行了分析，结果表明金刚石膜是......
金刚石具有最高的硬度、极高的耐磨和抗腐蚀性、极低的摩擦系数，这些特性使CVD金刚石膜成为加工工具和耐磨零件的最佳防护涂层......
本文着重研究了化学气相沉积(CVD)法沉积纳米金刚石膜的制备工艺，对纳米CVD金刚石膜的性能及特点进行了详细的描述，并对本公司多......
选用CVD金刚石膜作为硬支点材料，设计、制造了一种新型硬支点强化孕镶金刚石钻头，并对φ59mm硬支点孕镶金刚石钻头进行了冲击回转钻......
金刚石具有优异的机械性能、热力学性能、光学性能、声学性能、半导体性能及化学惰性,作为一种全方位的多功能材料,在诸多领域具有......
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金刚石具有一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能，在高科技领域具有广阔的应用前景。未掺杂CVD金刚石膜是高度绝缘......
CVD金刚石膜是由化学气相沉积技术沉积的纯金刚石多晶膜,具有最高的硬度和热传导性,良好的化学稳定性和透光性等优越的光学及物理......
采用热丝辅助化学气相沉积(CVD)工艺制备出纳米、微米及细晶粒金刚石膜材料.观察了这三种金刚石膜的表面形貌并对上述金刚石膜的物......
本文重点对近年硬质合金基体表面预处理方法及其对CVD金刚石膜沉积的影响进行了综述。按其原理来分,预处理方法可分为物理预处理法......
研制成功国内第1台大面积CVD金刚石膜热铁板抛光机．它可以在10Pa真空条件下，加热到1 100℃；抛光台可以在0～10 r/min间实现无级调速，一次......
在气体循环条件下采用H2、CH4和Ar的混合气体,利用100kW直流电弧等离子喷射CVD系统,在850和950℃下在Mo衬底上沉积了不同厚度的金......
讨论了激光抛光金刚石膜机理、影响因素,分析了激光抛光金刚石膜理论模型、激光抛光后金刚石膜的粗糙度极限,提出要实现金刚石膜特......
YAG金刚石激光铲平切割机是针对宁夏机械研究院生产的CVD金刚石膜进行后加工的设备.文章介绍了金刚石膜激光铲平切割机的工作原理......
通过分析CVD金刚石膜的结构,对CVD金刚石膜的场发射机制进行了研究.结果表明金刚石膜内含有一定数量的石墨,当电子通过石墨时从石......
用电镜、激光ROMAN谱分析等手段研究工艺参数对CVD金刚石膜生长速率和生长质量的影响。结果显示：金刚石薄膜的生长速率随甲烷浓度、......
<正> 金刚石膜是在1987年国家“八六三”高科技发展计划新材料领域成立后第一批设立的研究项目,1995年更被列为“八六三”23项重大......
研究了一种快速有效地抛光CVD金刚石厚膜的技术.该技术是利用化学活性很强的稀土金属铈(Ce)与金刚石(碳)的固相化学反应,在一定的......
研究开发了一种低温、快速抛光化学气相沉积（CVD）金刚石厚膜的新技术，该技术是利用金刚石（C）和溶碳活性很高的稀土金属铈（Ce）和过渡金属锰......
采用溶碳活性很高的稀土金属Ce和过渡金属Fe熔炼出Ce-7％Fe（原子分数，下同）合金，利用该合金对CVD金刚石膜进行热化学抛光。结果表明：Ce-7％F......
利用XRD（包括sin^2ψ法）研究了电子辅助热灯丝化学气相沉积法（EA-HFCVD）生长的自支撑硼掺杂多晶金刚石薄膜的残余应力和微观应力．结果表......
Dynamic friction polishing (DFP) is one of the most promising methods appropriate for polishing CVD diamond film with hi......
近日，焦作市2005年科技项目发布洽谈会在焦作市会议中心举行，北京科技大学科技处代表参加了此次会议。根据焦作市的产业结构特点，北京......
介绍了化学气相沉积(CVD)金刚石膜应用于电真空器件夹持杆及输能窗方面的研究进展,以及国外对CVD金刚石封接技术解决方案以及国内C......
采用ＳＥＭ，ＴＥＭ对金刚石膜－硬质合金基体横截面的形态进行了研究，探讨了甲烷含量对ＣＶＤ金刚石膜－基横截面各组织层次的影响。结果表明，经化学侵蚀脱钴......
文章从经济的角度,通过专业的财务分析,对CVD金刚石膜这一新型材料的投资价值进行研究。研究认为,CVD金刚石膜将成为金刚石材料未......
直流喷射化学气相沉积金刚石膜，其完整性一直是个难以解决的技术难题，并且直接影响了其推广应用。文章通过研究金刚石膜的质量、衬鹿......
应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形......
研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺,在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜.利用SEM分析了电沉积层的......
CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料，其表面必须得到高质量抛光，但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求．......
化学气相沉积（CVD）制备的金刚石膜表面粗糙且厚薄不均匀,在许多情况下不能直接使用,必须对其进行抛光。本文研究了不同型号的金刚石......
利用Nd：YAG型金刚石精密激光切割机，采用激光轴向偏焦法对化学气相沉积（CVD）法制备的金刚石膜表面进行扫描式平整化处理，利用扫描电子显......
CVD金刚石膜的应用范围日益扩大,已经从传统的刀具、模具领域扩展至高频通讯、光 电、微电子等产业.本文首先通过理论分析建立抛光......
为了了解直流等离子喷射CVD自支撑金刚石膜高温氧化机理,利用热失重的方法研究了金刚石膜在不同温度、不同氧浓度条件下的氧化反应......
用微波等离子体化学气相沉积方法合成高品质同质外延金刚石膜，并且用扫描电镜和阴极荧光分析法评价。为了得到高薄膜生长速率，把甲烷......
提出了一种新型的CVD金刚石膜/硅(p～1010Ω·cm)为基板的微条气体室,阳极宽度7μm,阴极100 μm,间距200 μm.室温下,充以1.01&#......
研究了CVD金刚石膜氧化行为与断裂强度的关系.试验结果表明:CVD金刚石膜随着高温氧化时间延长,其断裂强度不断下降;同样,随氧化温......
利用熔融稀土铈（Ce）对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究。详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响，获得了最佳抛光工艺。通过......
化学气相沉积金刚石膜是聚优异力学、电学、热学性能于一体的材料。金刚石激光打孔过程中存在特有的石墨化现象使得其温度场的分布......
电推进装置与传统的推进装置相比,具有比冲高、体积小、质量轻、易控制的优点。随着人们对于太空探索范围不断的扩展,电推进需要承......
在CH4/H2气氛下,利用直流热阴极PCVD(Plasma chemical vapor deposition)设备制备的金刚石膜并研究其高温氧化行为。对制备的样品......
