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对C276镍铬合金基带进行电化学抛光后,采用磁控溅射技术制备中间层或过渡层,然后通过金属有机物化学气相沉积法制备Y-Ba-Cu-O高温超导层。考察了抛光电流对抛光带表面粗糙度、中间层或过渡层面内织构度数和超导层的临界电流的影响。确定了合适的基带抛光电流范围为60~100 A,最佳为90 A。
镍铬合金基带抛光电流对Y-Ba-Cu-O高温超导带材性能的影响
【摘 要】
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对C276镍铬合金基带进行电化学抛光后,采用磁控溅射技术制备中间层或过渡层,然后通过金属有机物化学气相沉积法制备Y-Ba-Cu-O高温超导层。考察了抛光电流对抛光带表面粗糙度
【机 构】
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苏州新材料研究所有限公司
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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2020年11期
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