激光分子束外延SrTiO3薄膜退火过程中表面扩散的研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chaowei7838

【摘要】

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用激光分子束外延研究了SrTiO3同质外延时原位退火中,反射高能电子衍射(RHEED)强度的恢复--驰豫时间,导出了高真空下表面扩散的活化能为0.31 eV,与低真空下的结果相比要小许

【作者】

：

魏贤华张鹰邓新武黄文李金隆李言荣

【机构】

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电子科技大学

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2004年4期

【关键词】

：

表面扩散退火过程薄膜厚度 RHEED SrTiO3 粒子振荡周期激光分子束外延反射高能电子衍射驰豫时间 SrTiO3 films Surface d

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用激光分子束外延研究了SrTiO3同质外延时原位退火中,反射高能电子衍射(RHEED)强度的恢复--驰豫时间,导出了高真空下表面扩散的活化能为0.31 eV,与低真空下的结果相比要小许多,这反映了粒子达到基片时的能量差.对沉积不同厚度的薄膜退火研究,表明当薄膜厚度增加时,表面恢复情况减弱,而导致随后的沉积时RHEED振荡周期的改变.

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