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设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果。
电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备
【摘 要】
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设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜
【机 构】
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汕头大学理学院; 汕头超声显示器有限公司;
【出 处】
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光电子技术
【发表日期】
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2014年04期
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(11274220);广东省“扬帆计划”引进紧缺拔尖人才项目
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