光敏聚酰亚胺光刻工艺研究

来源 :化工新型材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：minjiangfashion

【摘要】

：

确定了光刻的工艺条件，研制了适宜的显影液，显示了感光树脂的应用价值。 Determine the lithography process conditions, developed a suitable developer, shows the value

【作者】

：

高素欣

【机构】

：

河北工业大学化工新产品开发中心

【出处】

：

化工新型材料

【发表日期】

：

1998年01期

【关键词】

：

光刻胶光敏聚酰亚胺曝光前烘显影固化

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确定了光刻的工艺条件，研制了适宜的显影液，显示了感光树脂的应用价值。 Determine the lithography process conditions, developed a suitable developer, shows the value of the photosensitive resin.

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