【摘 要】
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本文全面地研究了微细铝条等离子刻蚀的有关问题.从实验上给出了刻蚀的各向异性、均匀性以及刻蚀速率等基本参数与设备、工艺和物理因素的关系.成功地刻出了线度为1.5～2μm、
【机 构】
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兰州大学物理系,兰州大学物理系,兰州大学物理系,兰州大学物理系
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本文全面地研究了微细铝条等离子刻蚀的有关问题.从实验上给出了刻蚀的各向异性、均匀性以及刻蚀速率等基本参数与设备、工艺和物理因素的关系.成功地刻出了线度为1.5～2μm、厚度1.5μm的微细铝条.
In this paper, the problems of plasma etching of fine aluminum strip are comprehensively studied, and the relationship between the basic parameters such as anisotropy, uniformity and etching rate of etching, equipment, process and physical factors are given experimentally. Out of a fineness of 1.5 ~ 2μm, thickness 1.5μm fine aluminum.
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