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超导HEB热电子混频技术是目前1THZ以上频段的最佳候选技术。在HEB器件的制备中，成功刻蚀微桥是关键。文章利用EBL、光刻技术、RIE技术相结合的方式，对如何成功刻蚀微桥进行了深入研究。并通过对EBL、光刻技术和RIE条件的研究分析，确定了最佳实验条件，成功实现了HEB器件的图形转移。
超导HEB器件制备中的图形转移技术研究
【摘 要】
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超导HEB热电子混频技术是目前1THZ以上频段的最佳候选技术。在HEB器件的制备中，成功刻蚀微桥是关键。文章利用EBL、光刻技术、RIE技术相结合的方式，对如何成功刻蚀微桥进行了深
【机 构】
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南京大学超导电子研究所
【出 处】
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低温与超导
【发表日期】
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2008年11期
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