【摘 要】
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选用能制备小周期的鸽／硅（W／Si）作为膜层材料对，着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法，设计了入射光子能量为
【机 构】
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同济大学物理系精密光学工程技术研究所物理系
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选用能制备小周期的鸽／硅（W／Si）作为膜层材料对，着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法，设计了入射光子能量为8．OkeV，掠入射角的宽度分别为0．85°～1．10°，1．40°～1．70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术，考虑了W／Si两种膜层材料的最小成膜厚度，确定了膜堆中最小膜层厚度为0．5nm～1．0nm。通过改变最小膜层厚度的值，优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较
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