高密度氧化铟锡（ITO）靶材的制备研究

来源 :云南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：xnf0769

【摘要】

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以水热合成的2种不同粒径（70±8）nm和（40±6）nm单分散ITO粉末为原料，对原料粉体粒径分布、冷等静压成型压力、烧结温度和时间等与靶材烧结密度之间的关系进行了研究．当2种

【作者】

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朱归胜徐华蕊

【机构】

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桂林电子科技大学信息材料科学与工程系

【出处】

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云南大学学报(自然科学版)

【发表日期】

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2007年6期

【关键词】

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高密度 ITO 靶材制备 relative density indium tin oxide （ I T O） target preparatio

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以水热合成的2种不同粒径（70±8）nm和（40±6）nm单分散ITO粉末为原料，对原料粉体粒径分布、冷等静压成型压力、烧结温度和时间等与靶材烧结密度之间的关系进行了研究．当2种粒径原料按7：3质量比混合均匀，成型压力为250MPa，成型坯体经1300℃预烧1．5h和在1400℃烧结1h后可以得到相对密度大于99％的高密度、高纯度ITO靶材．

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