波导材料SiO2的火焰水解生长及表征

来源 :光电子·激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户：txmotor

【摘要】

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采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20 μm的波导下包层材料SiO2膜.利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对其进行了测试分析,得

【作者】

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张乐天谢文法吴远大邢华李爱武郑伟张玉书

【机构】

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吉林大学电子科学与工程学院

【出处】

：

光电子·激光

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

：

二氧化硅火焰水解法表面特性光学常数波导材料 DepositionFabricationMorphologyRefractive indexSilicaT

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采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20 μm的波导下包层材料SiO2膜.利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对其进行了测试分析,得到了空气中1 400 ℃退火后SiO2的均方根粗糙度为0.184 nm,原子比为1∶2.183,在1.55 μm处的折射率为1.456 4.

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