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合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂,采用同步辐射装置X射线深度曝光,可得到深宽比45～90,深度大于450微米,细线宽5～10微米的良好光刻图形.
PMMA在LIGA技术中的应用
【摘 要】
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合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂,采用同步辐射装置X射线深度曝光,可得到深宽比45～90,深度大于450微米,细线宽5～10微米的良好光刻图形.
【机 构】
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中国科学院化学研究所,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2001年4期
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