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为了研究磁控溅射方法制备的Zr膜的应力分布情况，采用探针轮廓仪测量镀膜前后基片在1维方向上的形变，根据镀膜前后基片曲率半径的变化和Stoney公式，用自编应力计算软件计算出薄膜的内应力。结果表明，Zr膜中主要存在的是压应力，且分布不均匀；工作气压对Zr膜内应力影响不大，但膜厚对Zr膜内应力影响较大，且随膜厚的增加，Zr膜中压应力减小。