【摘 要】
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研究了CS在铝阴极表面的电泳沉积行为和成膜机理 ,试验了槽压、CS浓度、溶液 pH值、温度、支持电解质品种等对成膜的影响 ,采用XRD、SEM等技术确证涂膜的生成 ,表征了膜层形
【机 构】
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武汉大学化学与环境科学学院!湖北武汉430072,武汉大学化学与环境科学学院!湖北武汉430072,武汉大学化学与环境科学学院!湖北武汉430072
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研究了CS在铝阴极表面的电泳沉积行为和成膜机理 ,试验了槽压、CS浓度、溶液 pH值、温度、支持电解质品种等对成膜的影响 ,采用XRD、SEM等技术确证涂膜的生成 ,表征了膜层形貌 ,讨论CS电泳沉积的反应历程 .
The effects of bath pressure, CS concentration, solution pH, temperature, supporting electrolytes and other factors on the film formation were studied. The effects of CS deposition on the surface of aluminum cathodes were studied by XRD and SEM The morphology of the film was generated and characterized. The reaction course of CS electrophoretic deposition was discussed.
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