【摘 要】
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9912741电子束再结晶法制备的纳米硅薄膜室温光致发光特性[刊]/余云鹏//功能材料.—1999,30(1).—26~28(C)用电子束再结晶的方法对非晶硅氢材料进行快速退火,成功地制备出纳
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9912741电子束再结晶法制备的纳米硅薄膜室温光致发光特性[刊]/余云鹏//功能材料.—1999,30(1).—26~28(C)用电子束再结晶的方法对非晶硅氢材料进行快速退火,成功地制备出纳米硅薄膜,在室温下观察到光致红、蓝发光带,峰位约在1.7eV 和2.5eV 处,XRD 和PL 谱结果表明:晶化程度的变化引起红、蓝光带强度及在整个发光谱中所占比例的改变,在我们的实验中,
9912741 Room temperature photoluminescence of nanocrystalline silicon films prepared by electron beam recrystallization [J] / Yu Yunpeng // Functional Materials.-1999,30 (1) .- 26-28 (C) Crystalline silicon hydride material was annealed rapidly to prepare a thin film of nanocrystalline silicon. The red and blue light emission bands were observed at room temperature with peak positions of about 1.7 eV and 2.5 eV. The XRD and PL spectra showed that the degree of crystallization Changes caused by red and blue band intensity and the proportion of the entire spectrum of changes in our experiment,
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