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介绍了一种半绝缘InP(Fe)低温氯化物气相外延(VPE)生长方法,生长温度为550℃,可为金属有机气相淀积的量子阱结构二次外延半绝缘InP(Fe)盖层。4μm层厚时电阻率超过5×10^8Ωcm,临界击穿电压达到10V以上。用这种方法制备的激光器阈值电流达80mA,较平板式的降低3倍,远场图样平行和垂直结平面方向光功率曲线对称性良好,远场发散角,器件测试得到较好光谱。目前尚未见到其它类似报道。