【摘 要】
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A high quality epitaxial Si layer by molecular beam epitaxy(MBE)on Si(001)substrates was demonstrated to fabricate a channel with low density defects for high-performance Fin FET technology.In order to study the effects of fin width and crystallography or
【机 构】
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DepartmentofMicro-Nanoelectronics,BeijingLaboratoryofFutureICTechnologyandScience,BeijingNationalLab
【基金项目】
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the National Key Research and Development Program of China(Grant No.2016YFA0200504),the National Natural Science Foundation of China(Grant No.61927901)。
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A high quality epitaxial Si layer by molecular beam epitaxy(MBE)on Si(001)substrates was demonstrated to fabricate a channel with low density defects for high-performance Fin FET technology.In order to study the effects of fin width and crystallography or
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