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报道了用Ｘ射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３ＢＩＡ光刻束线获得的０．５μｍ的光刻分辨率的实验结果。
0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术
【摘 要】
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报道了用Ｘ射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３ＢＩＡ光刻束线获得的０．５μｍ的光刻分辨率的实验结果。
【机 构】
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中国科学院微电子中心三室,科学院高能物理所同步室
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1999年3期
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