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报道在不加热的基底上，由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制的ＺｒＯ２和ＴｉＯ２单摹光学性质，并提供卫工艺参数和离子束设备的说情。这两种荷 能离子束工艺已被用于光学多层膜，如减反射膜和短波通滤光片的制备
荷能离子束沉积的氧化物薄膜光学性质
【摘 要】
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报道在不加热的基底上，由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制的ＺｒＯ２和ＴｉＯ２单摹光学性质，并提供卫工艺参数和离子束设备的说情。这两种荷 能离子束工艺已被用于光学多层膜，如减反
【机 构】
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北京师范大学物理系,北京光电技术研究所
【出 处】
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光学仪器
【发表日期】
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1999年4期
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