【摘 要】
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曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响.为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的均匀性,在凹面衬底上建立了非牛顿流体微元经离心旋转的流体动力学模型.根据对应的边界条件、非牛顿流体的本构方程和连续性方程,推导并得到了流体性质、曲面面形、旋转速度和时间等因素与最终厚度的关系式.使用流变仪对950 K PMMA C 2％抗蚀剂的流体性质进行标定,在凹面衬底上以旋转速度为单一变量进行离心涂胶实验,使用光谱椭圆偏振仪测量离心后随矢量半径变化的胶体厚度,并与理论推导进行对比.实
【机 构】
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中国科学院电工研究所,北京100190;中国科学院大学,北京100049;中国科学院电工研究所,北京100190
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曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响.为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的均匀性,在凹面衬底上建立了非牛顿流体微元经离心旋转的流体动力学模型.根据对应的边界条件、非牛顿流体的本构方程和连续性方程,推导并得到了流体性质、曲面面形、旋转速度和时间等因素与最终厚度的关系式.使用流变仪对950 K PMMA C 2％抗蚀剂的流体性质进行标定,在凹面衬底上以旋转速度为单一变量进行离心涂胶实验,使用光谱椭圆偏振仪测量离心后随矢量半径变化的胶体厚度,并与理论推导进行对比.实验结果表明:旋转速度在2000 r/min时,理论厚度为267 nm,实验所测厚度为230 nm,偏差比率为13.86％;旋转速度在3000 r/min时,理论厚度为178 nm,实验所测厚度为172 nm,偏差比率为3.37％.考虑到涂胶后,前烘工艺会进一步减小胶层厚度,偏差在正常范围内.本文建立的数学模型具有较好的预见性,可以对胶体经旋转离心后的均匀性提供理论指导.
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