[SiNi(H2O)W11O39]^6-多层组装膜修饰电极及其电化学行为

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采用电化学生长法制备包含杂多酸[SiNi(H2O)W11O39]^3-(SiNiW11)和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极,利用循环伏安法研究其电化学行为、pH的影响及其对BrO3^-和NO2^-体系还原的电催化性能;并对多层膜电化学过程机理进行了初步探讨。结果表明:多层膜的增长均匀,峰电流随层数的增加而增加;多层膜的峰电流随扫速的增加而增加;还原峰的峰电位随pH的增加而负移。
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