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介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以及在微电子工业中的应用,给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刻胶的实验结果,简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响.
常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用
【摘 要】
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介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以及在微电子工业中的应用,给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刻胶的实验结果,简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响.
【机 构】
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中国科学院微电子研究所
【出 处】
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清洗世界
【发表日期】
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2005年4期
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