非晶态Nb氧化物纳米薄膜可见光区的光致发光

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【摘要】

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在低真空及亚高温(200～300℃)下.通过热氧化法在Si单晶基底上合成了呈准直阵列的椎形结构的氧化铌(NbOx)非晶结构纳米薄膜,薄膜经热处理后室温下在可见光区具有很好的光致发光

【作者】

：

陶淑芬周效锋

【机构】

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云南曲靖师范学院物理系

【出处】

：

光学学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

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材料光致发光热氧化法 Nb氧化物薄膜非晶纳米材料 materials photoluminescence thermal-oxidation niobiu

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在低真空及亚高温(200～300℃)下.通过热氧化法在Si单晶基底上合成了呈准直阵列的椎形结构的氧化铌(NbOx)非晶结构纳米薄膜,薄膜经热处理后室温下在可见光区具有很好的光致发光.实验研究了退火温度与发光强度规律,对铌氧化物纳米薄膜的光致发光(PL)机制进行了初步分析和讨论.变功率光致发光(PL)实验有力地支持了初步讨论结果.

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