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期刊论文
α—Si:H多层膜切面电镜观察分析
α—Si:H多层膜切面电镜观察分析
来源 :电子科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:psty2006
【摘 要】
:
本文制备了六种不同结构的 α-Si:H 多层膜结构,对其切面进行了扫描电镜观察分析.结果表明:辉光法生长 α-Si:H 膜过程中存在沉积和刻蚀一对对抗性矛盾,在常规工艺下各层界面
【作 者】
:
惠恒荣
箸玉辉
【机 构】
:
电子科技大学微电子科学与工程系,电子科技大学微电子科学与工程系
【出 处】
:
电子科技大学学报
【发表日期】
:
1990年1期
【关键词】
:
α-Si:H
多层膜
扫描电镜
amorphous hydrogenated siliconmultilayer filmsscanning electron
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本文制备了六种不同结构的 α-Si:H 多层膜结构,对其切面进行了扫描电镜观察分析.结果表明:辉光法生长 α-Si:H 膜过程中存在沉积和刻蚀一对对抗性矛盾,在常规工艺下各层界面不明显存在,在特殊条件下,可能生长出尺度不同的微晶镶嵌在非晶网络中。
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