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本文介绍了基于直线电机、洛仑兹平面电机的 0 1μm光刻机 6坐标高速超精工件台的结构设计 ,其在 30 0mm运动范围内 ,系统的定位精度和运动精度都达到纳米级 ,且具有优良的速度、加速度、变加速度等动态性能。
100nm步进扫描光刻机硅片台掩模台运动结构设计
【摘 要】
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本文介绍了基于直线电机、洛仑兹平面电机的 0 1μm光刻机 6坐标高速超精工件台的结构设计 ,其在 30 0mm运动范围内 ,系统的定位精度和运动精度都达到纳米级 ,且具有优良的
【机 构】
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华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心,华中科技大学国家数控系统工程技术研究中心
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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2003年04期
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