【摘 要】
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本文介绍了两种简易的法向热发射率测定装置. 第一种是E·Schmidt氏装置的简化与改进,它是基于测定待测物体表面的本身热辐射;第二种是基于测定待测表面对一个热辐射源辐射的
【机 构】
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中国科学技术大学,中国科学技术大学,中国科学院上海硅酸盐研究所
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本文介绍了两种简易的法向热发射率测定装置. 第一种是E·Schmidt氏装置的简化与改进,它是基于测定待测物体表面的本身热辐射;第二种是基于测定待测表面对一个热辐射源辐射的反射率而间接地确定热发射率.对这两种装置的工作原理分别作出了近似的理论分析,列出了实验数据.经使用表明,这两种装置操作方便,性能稳定,可用于表面热发射率的检测.
This article describes two simple normal emissivity measurement device.The first is the E · Schmidt device simplification and improvement, which is based on the determination of the object to be measured surface heat radiation itself; the second is based on the determination of test The surface of a heat radiation source reflectance and indirectly determine the thermal emissivity.The working principle of these two devices were made an approximate theoretical analysis, the experimental data are listed.Use by the use of these two devices easy to operate , Stable performance, can be used for the detection of surface thermal emissivity.
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