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2.1.2新工艺在新器件制备工艺技术方面,超浅结工艺、沟道掺杂工程是器件进入亚100nm领域后需要采用的新工艺技术.
面向产业需求的21世纪微电子技术的发展（下）
【摘 要】
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2.1.2新工艺在新器件制备工艺技术方面,超浅结工艺、沟道掺杂工程是器件进入亚100nm领域后需要采用的新工艺技术.
【机 构】
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北京大学微电子学研究院
【出 处】
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物理
【发表日期】
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2004年7期
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