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【摘 要】
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TiAlN薄膜是一种有可能作为喷墨打印头中传统的TaN或TaAl发热电阻的替代品。采用TiN和AlN作靶材,在400°C下用射频磁控溅射共沉积方法在Si（100）基底上制备TiAlN薄膜,研究了
【机 构】
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SchoolofEnergy
【出 处】
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中国有色金属学报：英文版
【发表日期】
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2013年2期
【基金项目】
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Project （M-2009-01-0029） supported by Fundamental R＆D Program for Core Technology of Materials, Korea
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