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报道了在O2或SF6＋O2混合气体中反应离子刻蚀聚酰亚胺的基本原理，使用牛津等离子科技公司的Plasmalab up型刻蚀仪，对厚度O-4um的聚酰亚胺膜，进行各向异性的刻蚀，获得了侧墙陡直的微细图形。
采用SF6＋O2反应离子刻蚀聚酰亚胺膜
【摘 要】
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报道了在O2或SF6＋O2混合气体中反应离子刻蚀聚酰亚胺的基本原理，使用牛津等离子科技公司的Plasmalab up型刻蚀仪，对厚度O-4um的聚酰亚胺膜，进行各向异性的刻蚀，获得了侧墙陡直的微
【机 构】
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中国科学院上海冶金研究所,中国科学院传感技术联合开放国家实验室
【出 处】
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应用科学学报
【发表日期】
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1993年1期
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