“新摩尔时代”的新兴应用与技术探寻(下)

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  (接上期)
  产业链关键词:28nm、EDA、ODM、制造
  技术和产品的大繁荣,离不开健全的Ic产业链。此篇从与Ic相关的产业链角度报道一些企业。
  
  EDA
  
  ·2009年EDA和半导体业都下降了10%左右。但在萧条的严冬中,总有一些可敬的顽强生命在成长。一家2001年才成立的小EDA公司,2009年销售额增长了22%,2008年在功率分析方面的市场份额高达67%!这家公司就是Apache,CEO兼董事长Andrew T,Yang(杨天胜,华裔)博士介绍说,Apache专门提供降低功率和噪声的EDA工具。可解决现今流行的28/22nm的芯片封装系统的噪声闭合,包括功率、速度、EMI和热噪声。
  ·模拟和混合信号IC是利润最高的IC之一,因为设计技巧高。Tanner EDA公司的总裁GregLebsack称该公司的模拟/混合信号IC和MEMS设计工具可以大大降低设计门槛。
  ·要实现快速混合信号SoC,需要三方面:数字设计(例如Magma公司的Talus工具)、模拟设计(Magma的Titan)和库特征描述(Magma的SiliconSmart)。Magma的产品市场行销副总裁Bob Smith说,Titan Up!程序使模拟设计者提高产品率和复用性,Titan ALX(模拟布局加速器)和Titan AVP(模拟虚拟原型机)可提高模拟/混合信号设计的动态布局设计的产品化率。定制设计业务部门副总裁Ashutosh Mauskar宣布新近推出SiliconSmart ACE Memory Characterization,通过嵌入Magma超快的FineSim Pro模拟器,并且利用该公司专利的内存电路优化技术,可实现精确的时序、功率和噪声模式描述。
  ·32/28nm制造物理闭合需要解决时序、SI(信号整合)、DFM(可制造设计)和OPC(光学临近校正)等问题,以保证时序驱动环境下的物理签核(Signoff),为DFC/OPC最好准备。Mentor Graphics公司布局&布线事业部总经理Pravin Madhani说,Calibre InRoute工具的特点是通过内建的Calibre,可以探测到由LEF驱动(库交换格式驱动)的验证引起的DRC(设计规则检查)的违规或忽略,可采用Mentor的Olympus-SoC布局器进行自动修复。在布局器内部循环方面可采用Calibre DRC。Calibre InRoute方案的特点是:集成的设计和验证平台,可减少几天到几周的设计时间。
  
  ODM(委托设计)
  
  ·代工厂的股东权益回报率只有8%左右,而Fabless(设计公司,也称无芯片加工厂公司)的股东权益回报率(ROE)15%左右。如果“设计公司+代工厂:实际的IDM(集成器件制造商)”,可以使代工厂和Fabless的综合RoE达到15%。因此,TSMc投资并控股的台湾创意电子(Global Unichip)诞生了。
  创意电子主要帮助一些有好点子的公司快速实现IC设计,并推荐到TSMC流片。据创意电子市场处处长黄克勤博士介绍,该公司在祖国大陆的业务一直在成长,黄处长称赞一些祖国大陆的客户想法十分超前,甚至需要创意电子公司设计双核ARM Cortex-A9处理器!目前,从该公司的2009年设计项目看,0.13um设计仍是主流,占44%;65nm占24%;90nm一直没有发展起来,只有9%;40nm设计2009年开始露头,占1%(注:笔者这段消息发在网上后,网友rram评论道:实际上,设计成本的急剧上升,导致越来越少的厂家愿意采用先进工艺,导致先进工艺的使用越来越少,反过来导致设备的平均售价上升,又推高制程成本!)。
  ·ASIC设计业也红火。Open—Silicon总裁兼CEO Naveed Sherwani介绍说。该公司即使在2009年低谷还达到了s%的增长,过去三年年均增长20%,预计今年将达30%!
  ASIC设计的未来应该是:专注在解决方案和质量。Naveedd对ASIC设计师的建议是:只做部分自己的IP,无需内部晶圆厂,尽量使用第三方内存、库和工具,利用外包的设计中心。
  
  制造工艺
  
  设计方案送到代工厂后,还能进一步优化。Tele Innovaffons公司与最大的代工厂TSMC进行了合作,专门做制程优化。Tela市场行销副总裁Neal Carney说,AreaTrim工具可减小芯片面积,PowerTrim降低漏电流,据说在40nm时可减少逻辑电路50%漏电流。Tela的商业模式是提供给TSMC库,这样在TSMC流片的厂商可以选择Tela产品。
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