【摘 要】
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氮化硅材料提供了一种与CMOS兼容的集成光子平台,具有丰富的光学特性。通过调节相关制备参数,可以获得特定折射率的薄膜材料,且消光系数和非线性系数具有较大可调控范围。因此,氮化硅材料在薄膜光学、微纳平面光学、非线性集成光学等诸多领域具有广泛的应用前景。本文主要介绍氮化硅材料的光学特性及其在光学薄膜、微纳超构材料和硅光集成器件方面的研究现状,综述氮化硅材料在太阳能薄膜、可见光超构表面、光栅耦合器和非线性光波导等应用领域的研究概况。
【机 构】
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中山大学物理学院,中山大学光电材料与技术国家重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(No.62035016,No.61805288,No.11904421),广东省基础与应用基础研究基金区域联合基金项目(No.2020A1515110661)。
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氮化硅材料提供了一种与CMOS兼容的集成光子平台,具有丰富的光学特性。通过调节相关制备参数,可以获得特定折射率的薄膜材料,且消光系数和非线性系数具有较大可调控范围。因此,氮化硅材料在薄膜光学、微纳平面光学、非线性集成光学等诸多领域具有广泛的应用前景。本文主要介绍氮化硅材料的光学特性及其在光学薄膜、微纳超构材料和硅光集成器件方面的研究现状,综述氮化硅材料在太阳能薄膜、可见光超构表面、光栅耦合器和非线性光波导等应用领域的研究概况。
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