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基于芯片图形特征尺寸越来越小,图形越来越密集,缺陷很难修补。阐述掩模在制作过程中缺陷形成的原因,对掩模缺陷进行分类,掩模修补的方法,包括激光气化法、局部曝光法、离子束修补。
光掩模缺陷修补技术
【摘 要】
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基于芯片图形特征尺寸越来越小,图形越来越密集,缺陷很难修补。阐述掩模在制作过程中缺陷形成的原因,对掩模缺陷进行分类,掩模修补的方法,包括激光气化法、局部曝光法、离子
【机 构】
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无锡中微掩模电子有限公司
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2021年4期
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