【摘 要】
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采用微波等离子体化学气相沉积法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜.研究了铜过渡层和酸蚀脱钴两种基体前处理工艺以及在施加铜过渡层的情况下,不同的沉积气压和基片温度对金刚
【机 构】
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武汉化工学院材料科学与工程系,武汉化工学院材料科学与工程系,中国科学院等离子体物理研究所
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采用微波等离子体化学气相沉积法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜.研究了铜过渡层和酸蚀脱钴两种基体前处理工艺以及在施加铜过渡层的情况下,不同的沉积气压和基片温度对金刚石薄膜的质量的影响.结果表明:在施加铜过渡层后,在适中的沉积条件下(沉积气压6.0 kPa,基片温度约为780℃)可得到质量较好的金刚石薄膜.
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本文是作者于2000年7月28目定稿成文的,现作为遗稿公开发表。因是绝笔,尊重其夫人要求,对原稿不作文字原意上的删改,仅作某些技术上的处理。