【摘 要】
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利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5∶100的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储实验室
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利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5∶100的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性质的影响,并对沉积态薄膜的粉末进行了热分析。沉积态的NiOx薄膜在262℃时开始分解,导致NiOx薄膜的透过率增加和反射率降低。X射线衍射和示差扫描量热曲线（DSC）分析表明,在热处理过程中并无物相的变化,光学性质的变化是由于NiOx薄膜热分解引起薄膜表面形貌发生变化而引起的。通过Kissinger公式计算出热分解所需
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