通过介电胶膜将离子注入碲隔汞

来源 :红外与激光技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qian_betty

【摘要】

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对铟锡氧化物(ITO)和二氧化硅(SiO_2)作为碲镉汞(MCT)的胶膜的有效性作了研究。将不同厚度的ITO和SiO_2溅射到MCT样品上,然后用铝注入到样品上并用常规炉子进行退火。用卢瑟

【作者】

：

王淑云裘效诚

【出处】

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红外与激光技术

【发表日期】

：

1991年3期

【关键词】

：

离子注入碲隔汞介电胶膜退火

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对铟锡氧化物(ITO)和二氧化硅(SiO_2)作为碲镉汞(MCT)的胶膜的有效性作了研究。将不同厚度的ITO和SiO_2溅射到MCT样品上,然后用铝注入到样品上并用常规炉子进行退火。用卢瑟福背散射(RBS)实验研究表面因注入和退火引起的汞损失的情况。RBS结果并不表明在用介电胶膜注入期间所引起的汞的任何损失,而它的确表明,在退火期间是用SiO_2密封的样品丢失了汞而不是用ITO密封的样品丢失汞的。

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