【摘 要】
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日本电气公司(NEC Co.)开发了一种化学气相淀积(CVD)半导体制造技术,它能够在室温下在硅片上形成很薄的绝缘膜。
NEC Co. has developed a chemical vapor deposition (CVD
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日本电气公司(NEC Co.)开发了一种化学气相淀积(CVD)半导体制造技术,它能够在室温下在硅片上形成很薄的绝缘膜。
NEC Co. has developed a chemical vapor deposition (CVD) semiconductor manufacturing technology that forms a thin insulating film on silicon at room temperature.
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