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正性光致抗蚀剂,能在短时间的光照下分解为可溶性物质,被广泛应用于光刻工艺,是一类新型的电子信息化学品,现介绍正性光致抗蚀剂性的合成原理及施工应用方法.
正性光致抗蚀剂的合成与应用
【摘 要】
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正性光致抗蚀剂,能在短时间的光照下分解为可溶性物质,被广泛应用于光刻工艺,是一类新型的电子信息化学品,现介绍正性光致抗蚀剂性的合成原理及施工应用方法.
【机 构】
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重庆三峡学院化工生物系
【出 处】
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重庆三峡学院学报
【发表日期】
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2001年2期
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