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对制作大面阵微透镜阵列的氩离子束刻蚀技术进行了讨论和分析。实验结果表明，衬底材料不同时，制作 表面形貌良好并具有预定参数指标要求的微透镜阵列的工艺条件有明显的差异，给出了在几种衬底材料上刻蚀制作 面阵微透镜列的离子束刻蚀速率束能量之间相互关系的实测结果。
氩离子束刻蚀制作大面阵微透镜阵列
【摘 要】
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对制作大面阵微透镜阵列的氩离子束刻蚀技术进行了讨论和分析。实验结果表明，衬底材料不同时，制作 表面形貌良好并具有预定参数指标要求的微透镜阵列的工艺条件有明显的差异，给
【机 构】
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华中理工大学光电子工程系
【出 处】
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华中理工大学学报
【发表日期】
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1998年A02期
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