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本文介绍了ITO靶材的主要制备方法、液晶显示对ITO靶材要求、磁控溅射沉积技术的应用。并提出了提高靶材利用率的几种方法：靶材厂商改变靶材结构提高使用率、旋转靶材的应用提高使用率、调整磁场强度提高ITO靶材使用率、靶材位置互换提高靶材使用率。供广大看客参考。
浅谈如何提高ITO靶材使用率
【摘 要】
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本文介绍了ITO靶材的主要制备方法、液晶显示对ITO靶材要求、磁控溅射沉积技术的应用。并提出了提高靶材利用率的几种方法：靶材厂商改变靶材结构提高使用率、旋转靶材的应用提
【机 构】
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南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
【出 处】
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电子世界
【发表日期】
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2014年24期
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