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微氮硅单晶中新施主的形成特性
微氮硅单晶中新施主的形成特性
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a341104361
【摘 要】
:
借助于电学测量和低温红外分析技术,研究了微氮硅单昌中新施主的形成特性在650℃长时间热处理后,微氮硅单晶不产生新施主,其中氮破坏了新施主的可能形核中心。低温450℃预退火能促进新
【作 者】
:
杨德仁
樊瑞新
【机 构】
:
浙江大学硅材料科学国家重点实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1996年7期
【关键词】
:
微氮硅单晶
施主
硅单晶
Annealing
Infrared radiation
Nitrogen
Semiconducting silicon
Semico
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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借助于电学测量和低温红外分析技术,研究了微氮硅单昌中新施主的形成特性在650℃长时间热处理后,微氮硅单晶不产生新施主,其中氮破坏了新施主的可能形核中心。低温450℃预退火能促进新施主生成,而高温1050℃预退火样品则同样没有新施主生成。
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